E’ italiano il laser al silicio

    Una pietra miliare sulla strada verso la realizzazione di dispositivi elettronici ultraveloci: è quella posta da due ricercatori italiani che sono riusciti a costruire una laser al silicio. Lorenzo Pavesi e Francesco Priolo – rispettivamente delle Università di Trento e di Catania—hanno fatto attraversare una piastrina ricoperta di nanocristalli di silicio da un raggio luminoso. Il quale, in uscita, lungi dall’essere assorbito, è risultato potenziato. La scoperta, pubblicata su Nature, è destinata a rivoluzionare il mondo dell’elettronica. Il laser al silicio è infatti il cosiddetto “anello mancante” necessario alla costruzione di dispositivi “optoelettronici”, che combinano le potenzialità dell’informatica elettronica con quelle basatesul trasporto ultraveloce di informazioni per vie ottiche. Il silicio, di cui sono costituiti i normali circuiti integrati usati in elettronica, è in grado di emettere luce, ma non in quantità sufficiente da permettere il trasporto di informazioni. Così, per costruire i laser e i dispositivi dell’optoelettronica, gli scienziati hanno dovuto usare semiconduttori piùcomplessi, più costosi e difficili da integrare con la tecnologia dei microchip. La scarsa capacità del silicio di emettere luce può essere però potenziata se si realizzano piastrine molto sottili, dell’ordine di pochi nanometri (un miliardesimo di metro). Questo per via degli effetti quantistici che operano su queste minuscole lunghezze. Ed è proprio sfruttando gli effetti quantistici che il gruppo di Pavesi è riuscito a ottenere emissioni di luce molto potenti dal silicio. (f.n.)

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